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部半波中特:尼康显微镜反射光DIC光学切片

2018-03-29  发布者:admin 

充分利用反射光DIC显微镜大物镜的数值孔径值的能力可以创建从一个集中的图像是非常浅的光学部分。如果没有从焦点取出光机出现明亮区域的混乱和分散注意力的强度波动,该技术得到了巧妙地从有显著表面浮雕一个复杂的三维不透明的标本切片清晰的图像。此属性通常用来获得的集成电路的表面上单独特征脆光学切片,作为探索在交互式指南中,以最小的干扰,从模糊的上方和下方的聚焦平面结构。

教程初始化与随机选择的集成电路的图像出现在DIC的标本图像窗口和一个目标的模型并在窗口的右手侧的晶片的表面上。为了操作的教程,使用目的焦点滑块通过一系列起始于上表面,并通过中央区域进展到下表面的平面的聚焦样品。当滑块被翻译,在检体的各种图像平面将被带进锐聚焦。同时,显微镜物镜模型将向上和向下移动相对于所述晶片表面,以模拟在显微镜的实际关系。新的集成电路可以通过从调色板中选择一个标本下拉菜单中选择检查。

在反射光显微术中,垂直照明孔径光阑在定义图像对比度和分辨率的主要作用。减小光圈大小增加了现场和整体图像锐度的明显深度的同时,增强了生产的对比度。然而,如果隔膜是封闭的太多,衍射工件变得显而易见,图像强度显著降低,并且被牺牲分辨率。通常情况下,最佳的孔径光阑设置之间准确渲染标本细节在足够的对比度和保持必要的图像分钟特征的分辨率,而在同一时间避免衍射伪像的折衷。一波中特打一肖

该系列的在图1中呈现高倍率的DIC图像示出了在重叠存在于一个典型集成电路的表面结构的同一视场三个独立的焦平面。 在明或暗场照明,这些结构经常观察合并在一起,并试图像特定的表面细节的时候会变得非?;炻?。 图1(a)揭示了几种金属氧化物端子在集成电路的上表面上,包括通孔(垂直层间的微型连接)和总线线路的一部分。再聚焦显微镜微米更深的十分之几暴露在电路(图1(b))的中央区域众多的连接。更深入的电路,邻近纯硅之上施加所述第一层,是一系列的金属氧化物线点缀着的经由连接有序阵列(图1(c))。反射光DIC的显微镜的光学切片能力清楚地表明通过这种复杂集成电路的表面上的能力,以图像的特定焦平面。




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